真空镀膜系统的温度控制要求

真空镀膜工作原理是膜体在高温下蒸发落在工件表面结晶。螺杆式冷水机选用当依照冷负荷及用处来思忖。对付低负荷运行工况时间较长的制冷体系，宜选用多机头塞式压缩机组或螺杆式压缩机组，便于调理和节能。低温冷水机它能够提供恒温、恒流、恒压的一种冷却设备。冷水机是将一定量的水注入机器的内部水箱，通过的制冷系统将水冷却，而后有机器内部的循环水泵将低温冷冻的水注入需要冷却的设备内，冷冻水将设备内部的热量带走，再将高温热水再次流到水箱内进行降温。风冷式冷水机配备各类安全保护装置，性能稳定、噪音低、使用寿命长、操作简单；采用液晶显示人机界面，操作简单便捷，运行状况一目了然由于空气对蒸发的膜体分子会产生阻力造成碰撞使结晶体变得粗糙无光，所以必须在高真空下才能使结晶体细密光亮，果如真空度不高结晶体就会失去光泽结合力也很差。早期真空镀膜是依靠蒸发体自然散射，结合差工效低光泽差。现在加上中频磁控溅射靶用磁控射靶将膜体的蒸发分子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子沉积在基片上成膜，解决了过去自然蒸发无法加工的膜体品种，如镀钛镀锆等等。

如果设备必须加冷却水，由于其高频电流。电流在导体中的流动具有集肤效应，电荷会集中在导电体具有的表面积上，使导热体在孔管中间作为导体用水冷却。

为什么要用水冷却？磁控溅射靶在发射过程中会产生高温，使枪变形，所以有水套对枪进行冷却。同时，磁控溅射可以被视为镀膜技术最杰出的成就之一还有一个重要原因。它具有溅射速率高、衬底温升低、膜基结合力好等优点。

从更深层次理论研究发展电子在非均匀电磁场中的运动变化规律 ,探讨了磁控溅射的更一般工作原理分析以及通过磁场的横向不均匀性及对称性是磁约束的本质问题原因。磁控溅射系统可以被认为是镀膜技术企业中最具有突出的成就目标之一。它以溅射率高、基片温升低、膜-基结合力好、装置性能比较稳定。

此外，根据涂布机和加工产品的不同，对冷水的要求也会有所不同，普通材料蒸发选择冷却水塔水温度可采用30℃左右，如果硬件温度要求在15-25℃。

低温冷阱的应用是指辅助抽气系统中真空镀膜排气系统由扩散泵、机械泵、罗茨泵、低温冷阱等组成，低温冷阱也是不可缺少的组成部分。

1.如果涂布机是采用扩散泵，一般泵回加一套冷阱，用于捕获油分子。这种制冷不需要再加热，可以使用普通的冰箱或者深冷。

如果要提高涂布机的速度，一般需要带回低温装置。当空气被抽出时，冷却系统被冷却，盒子的温度在空气被放气之前被加热。

3、周围还存在涂层情况，薄膜铝要冷却，要-15左右，脱糖前要恢复室温。

为您提供全方位技术研究方案进行解决